플라즈마 보조 유기금속 화학기상 증착법에 의한 MCN(M=Ti, Hf) 코팅막의 저온성장과 그들의 특성연구
Low Temperature Growth of MCN(M=Ti, Hf) Coating Layers by Plasma Enhanced MOCVD and Study on Their Characteristics
부진효(성균관대학교); 허철호(성균관대학교); 조용기(성균관대학교); 윤주선(성균관대학교); 한전건(성균관대학교)
15권 6호, 563~575쪽
초록
Ti(C,N) 박막을 온도범위 200 - 300 ℃에서 tetrakis diethylamido titanium 유기금속 화합물을 전구체로 이용하여 pulsed DC 플라즈마 보조 유기금속 화학기상 증착법 (PEMOCVD)으로 합성하였다. 본 연구에서는 플라즈마 특성을 서로 비교하기 위하여 수소 (N2)와 헬륨/수소 (He/H2) 혼합기체를 각각 운반기체로 사용하였으며, 전구체 이외에 질소 (N2)와 암모니아 (NH3) 기체를 반응기체로 사용하여 서로 다른 플라즈마 화학조건에서 얻어지는 박막내의 탄소함유량 (C content)의 변화를 비교하여 탄소가 가장 적게 함유된 저온 코팅막 합성공정을 찿으려고 하였다. 이를 위하여 증착시 서로 다른 pulsed bias 전압과 기체종류 하에서 여기된 플라즈마 상태의 라디칼종들과 이온화 경향을 in-situ optical emission spectroscopy (OES)법으로 플라즈마 진단분석을 실시하였다. 그 결과 He/H2 혼합기체를 N2와 함께 사용할 경우 라디칼 종들의 이온화를 매우 효과적으로 향상시킴을 관찰하였다. 아울러 NH3 기체를 H2 또는 He/H2 혼합기체와 같이 사용할 경우는 CN 라디칼의 생성을 억제하여 결과적으로 Ti(C,N) 박막내의 탄소함량을 크게 낮춤을 알 수 있었고, CN 라디칼의 농도가 탄소 함유량과 많은 관련이 있음을 알았다. 이 결과는 바로 박막의 미세경도와도 연관이 되며, bias 전압과 기체종류에 크게 의존하여 Ti(C,N) 박막의 미세경도가 1250 - 1760 Hk0.01 사이에서 나타났고, 최대치 (1760 Hk0.01)는 600 V bias 전압과 H2와 N2 기체를 사용한 경우에 얻어졌다. Hf(C,N) 박막 역시 tetrakis diethylamido hafnium 전구체와 N2/He-H2 혼합기체를 이용하여 pulsed DC PEMOCVD법으로 기판온도 300℃ 이하, 공정압력 1 Torr, 그리고 bias 전압과 기체 혼합비를 변화시키면서 증착하였다. 증착시 in-situ OES 분석결과 플라즈마 내의 질소종의 함유량 변화에 따라 증착속도가 크게 변화됨을 알 수 있었고, 많은 질소기체를 인입하면 질소종이 많아지지만 증착률은 급격히 감소하였고 박막내 탄소의 함량이 커지면서 막질이 비정질로 바뀌고 미세경도 또한 감소함을 알 수 있었다. 이는 in-situ 플라즈마 진단분석이 전체 PEMOCVD공정에 있어서 대단히 중요하고, Ti(C,N)과 Hf(C,N) 코팅막의 탄소함량과 미세경도는 플라즈마내의 CH과 CN radical종의 세기에 크게 의존함을 의미한다. 그리고 Hf(C,N) 박막의 경우도 Ti(C,N) 박막의 경우와 유사하게 최대 미세경도값 (2460 Hk0.025)이 -600 V bias 전압과 10% 질소기체 혼합비를 사용한 경우에 얻어졌고, 이는 박막이 주로 (111) 방향으로 성장됨에 기인한 것으로 사료된다.
Abstract
Ti(C,N) films are synthesized by pulsed DC plasma enhanced chemical vapor deposition (PEMOCVD) using metal-organic compounds of tetrakis diethylamido titanium at 200 - 300 ℃. To compare plasma parameter, in this study, H2 and He/ H2 gases are used as carrier gas. The effect of N2 and NH3 gases as reactive gas is also evaluated in reduction of C content of the films. Radical formation and ionization behaviors in plasma are analyzed in-situ by optical emission spectroscopy (OES) at various pulsed bias voltages and gas species. He and H2 mixture is very effective in enhancing ionization of radicals, especially for the N2. Ammonia (NH3) gas also highly reduces the formation of CN radical, thereby decreasing C content of Ti(C,N) films in a great deal. The microhardness of film is obtained to be 1,250 Hk0.01 to 1,760 Hk0.01 depending on gas species and bias voltage. Higher hardness can be obtained under the conditions of H2 and N2 gases as well as bias voltage of 600 V. <<Research Paper>> Journal of the Korean Vacuum Society Vol.15 No.6, November 2006, pp.563~575 Hf(C,N) films were also obtained by pulsed DC PEMOCVD from tetrakis diethylamido hafnium and N2/He-H2 mixture. The depositions were carried out at temperature of below 300 ℃, total chamber pressure of 1 Torr and varying the deposition parameters. Influences of the nitrogen contents in the plasma decreased the growth rate and attributed to amorphous components, to the high carbon content of the film. In XRD analysis the domain lattice plain was (111) direction and the maximum microhardness was observed to be 2,460 Hk0.025 for a Hf(C,N) film grown under -600 V and 0.1 flow rate of nitrogen. The optical emission spectra measured during PEMOCVD processes of Hf(C,N) film growth were also discussed. N2, N2+, H, He, CH, CN radicals and metal species(Hf) were detected and CH, CN radicals that make an important role of total PEMOCVD process increased carbon content.
- 발행기관:
- 한국진공학회
- 분류:
- 물리학